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日本开发新技术,可实现GaN垂直导电

作 者: 单 位: 阅读 2001
当地时间11月13日,冲电气工业株式会社(OKI)与信越化学合作,宣布成功开发出一种技术,该技术使用OKI的CFB(晶体薄膜键合)技术,从信越化学特殊改进的QST(Qromis衬底技术)基板上仅剥离氮化镓(GaN)功能层,并将其粘合到不同材料的基材上。   该技术实现了GaN的垂直导电,有望为可控制大电流的垂直GaN功率器件的制造和商业化做出贡献。两家公司将进一步合作开发垂直GaN功率器件,并与制造这些器件的公司合作,让这些器件能应用到实际生产生活中。   GaN功率器件因兼具高频率与低功耗特性而备受关注,尤其在1800V以上高[登陆后可查看全文]
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